Targed metel Hanfodion sputtering
Targed, yn syml, y defnydd o electronau neu beledu laser ynni uchel ar gyfer sputtering haenau. Yn olaf, mae'r cydrannau arwyneb yn cael eu hadneuo ar wyneb y swbstrad ar ôl cael eu sputtered allan fel grwpiau atomig neu ïonau, gan fynd trwy broses ffurfio ffilm, a chynhyrchu ffilm denau.
Daw haenau sputtering mewn ystod eang o fathau. Maent yn nodweddiadol Anweddiad CoatingThe cyfradd sputtering fydd un o'r paramedrau allweddol, sef gwahaniaeth. Mae'r laser sputtering cotio pld yn y cotio sputtering yn syml i gadw'r cyfansoddiad unffurf, ond mae'r unffurfiaeth trwch ar y raddfa atomig yn gymharol wael (oherwydd mae'n sputtering pwls) ac mae rheolaeth y cyfeiriadedd grisial (ymyl allanol) twf yn gymharol gyffredinol.
Maint y paru dellt rhwng y swbstrad a'r deunydd targed, yr amgylchedd cotio (awyrgylch nwy pwysedd isel), tymheredd y swbstrad, pŵer laser, amlder pwls, a'r amser sbuttering yw'r paramedrau pwysig yn pld, fel enghraifft . Mae angen y paramedrau delfrydol ar gyfer gwahanol swbstradau a deunyddiau sputtering. Maent yn wahanol, yn ôl arbrofion. Gallu offer cotio i reoli tymheredd yn fanwl gywir, sicrhau gwactod da, a chynnal siambr gwactod glân yw'r tri ffactor allweddol sy'n pennu ei ansawdd.
