Oherwydd bod gan folybdenwm nodweddion pwynt toddi uchel, dargludedd trydanol uchel, rhwystriant penodol isel, ymwrthedd cyrydiad da, a diogelu'r amgylchedd,targedau molybdenwmyn cael eu defnyddio'n helaeth yn y diwydiant electroneg, megis electrodau ar gyfer arddangosiadau panel fflat, celloedd solar ffilm tenau, ac ategolion. Gwybodaeth llinell, nawr gadewch i Xiaobian a'ch bod chi'n gwybod am nodweddion targedau molybdenwm mewn cynhyrchion twngsten a molybdenwm.
1. Uchel-purdeb molybdenwm targed
Yn gyffredinol, dylai purdeb y targed sputtering molybdenwm fod o leiaf 99.95 y cant. Fodd bynnag, gyda gwelliant parhaus maint swbstradau gwydr yn y diwydiant LCD, ac yn ôl maint y swbstradau gwydr sputtered ac amgylchedd y cais, mae'n ofynnol i burdeb targedau sputtering molybdenwm fod yn 99.99 y cant -99. 999 y cant neu hyd yn oed yn uwch.
2. Targed molybdenwm dwysedd uchel
Yn y broses o cotio sputtering, pan fydd y targed sputtering â dwysedd isel yn cael ei beledu, oherwydd bod nwy yn cael ei ryddhau'n sydyn ym mandyllau'r deunydd targed, mae gronynnau neu ronynnau targed ar raddfa fawr yn cael eu ffurfio i dasgu, neu mae'r deunydd ffilm yn yn destun difrod eilaidd ar ôl ffurfio ffilm. Mae'r peledu electronau eilaidd yn ffurfio sblash o ronynnau, a gall presenoldeb y rhain ddiraddio ansawdd y ffilm. Er mwyn lleihau'r mandyllau yn solet y deunydd targed a gwella perfformiad y ffilm, yn gyffredinol mae'n ofynnol i'r deunydd targed sputtering gael dwysedd uwch.
3. Maint grawn
Yn gyffredinol, mae gan y targed sputtering molybdenwm strwythur polycrystalline, a gall maint y grawn amrywio o ficromedrau i filimetrau. Mae astudiaethau arbrofol wedi dangos bod cyfradd sputtering y targed grawn molybdenwm micro-raddfa yn gyflymach na chyfradd y grawn bras, ac mae gan y targed sydd â gwahaniaeth llai ym maint grawn molybdenwm ddosbarthiad trwch mwy unffurf y ffilm a adneuwyd.
4. cyfeiriad crystallization
Gan fod atomau'r targed yn cael eu sputtered yn syml i gyfeiriad trefniant hecsagonol llym o atomau yn ystod sputtering, er mwyn cyflawni'r gyfradd sputtering, mae'r gyfradd sputtering yn aml yn cynyddu trwy newid strwythur grisial y targed. Mae cyfeiriad crystallograffig y targed hefyd yn cael dylanwad mawr ar unffurfiaeth trwch y ffilm sputtered. Felly, mae cael strwythur targed gyda chyfeiriadedd crisialog penodol yn hanfodol i broses sputtering ffilmiau tenau.
5. dargludedd thermol
Mae gweithgynhyrchwyr cynhyrchion twngsten a molybdenwm yn dweud wrthych fod yn rhaid i'r targed sputtering molybdenwm fod yn gysylltiedig â siasi copr di-ocsigen (neu ddeunyddiau eraill fel alwminiwm) cyn sputtering fel y gellir gwarantu'r dargludedd thermol rhwng y targed molybdenwm a'r siasi yn ystod y broses sputtering. Ar ôl rhwymo, mae angen pasio archwiliad ultrasonic i sicrhau bod arwynebedd heb fondio'r ddau yn llai na 2 y cant, er mwyn bodloni gofynion sputtering pŵer uchel heb ostwng.
6. Perfformiad targed molybdenwm
Purdeb: molybdenwm pur Yn fwy na neu'n hafal i 99.95 y cant, molybdenwm tymheredd uchel Yn fwy na neu'n hafal i 99 y cant (ychwanegwch elfennau prin y ddaear)
Dwysedd: Mwy na neu'n hafal i 10.2g/cm3
Pwynt toddi: 2610 gradd
Manylebau: targed crwn, targed plât, targed cylchdroi
Mae'r amgylchedd addas ar gyfer y targed molybdenwm a gynhyrchir gan Baoji Yusheng Metal Technology Co, Ltd yn amgylchedd gwactod neu amgylchedd diogelu nwy anadweithiol. Mae'r cynnwys molybdenwm pur yn y cynhyrchion molybdenwm a ddarparwn yn uchel, mae'r gwrthiant tymheredd uchel yn 1200 gradd, ac mae ymwrthedd tymheredd uchel aloi molybdenwm yn 1700 gradd. Mae'r targedau molybdenwm a gynhyrchir gan ein cwmni o ansawdd uchel, pris rhesymol, a darpariaeth gyflym.
